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    日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型 光學(xué)測(cè)量?jī)x

    訪問(wèn)次數(shù):2711

    更新日期:2024-03-22

    簡(jiǎn)要描述:

    日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型
    使用EXIMA UV光源進(jìn)行光表面處理,可以對(duì)薄膜材料等易受熱的物體進(jìn)行低溫表面處理,因?yàn)楸徽丈湮矬w的溫度由于其特性而不易升高。光源。此外,光化學(xué)反應(yīng)具有不易損壞工件的特點(diǎn)。

    日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型 光學(xué)測(cè)量?jī)x
    品牌其他品牌產(chǎn)品種類臺(tái)式
    數(shù)顯功能溫控功能無(wú)
    產(chǎn)地進(jìn)口

    日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型

    特征

    • 節(jié)省空間的桌面理想之選

    • 高速處理時(shí)間

    • 僅 AC100V 電源

    • 配備加工時(shí)間設(shè)定定時(shí)器

    • 門(mén)聯(lián)鎖設(shè)備

    • 配備臭氧消減處理裝置

    • 不使用汞燈

    • 內(nèi)置高度調(diào)節(jié)臺(tái)

    通過(guò)簡(jiǎn)單的基本設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高性能。

    使用EXIMA UV光源進(jìn)行光表面處理,可以對(duì)薄膜材料等易受熱的物體進(jìn)行低溫表面處理,因?yàn)楸徽丈湮矬w的溫度由于其特性而不易升高。光源。此外,光化學(xué)反應(yīng)具有不易損壞工件的特點(diǎn)。

    應(yīng)用示例

    • 潤(rùn)濕性、親水性、親和性提高

    • 提高接合面的附著力

    • 表面改性

    • 有機(jī)物分解清洗

    基本規(guī)格


    產(chǎn)品名稱準(zhǔn)分子紫外光處理設(shè)備桌面實(shí)驗(yàn)室規(guī)格
    型號(hào)E172-70
    波長(zhǎng)172納米
    光源XeEscimer 燈 Φ18 x 120 mm
    初始照度20mW/cm2以上
    連續(xù)照明操作10分鐘內(nèi)(由于輕巧緊湊的風(fēng)冷設(shè)計(jì))
    外形尺寸195 (W) x 380 (D) x 480 (H) 毫米 *
    效用電源 AC100V 50 / 60Hz 2A
    定期更換零件廢氣臭氧分解裝置建議使用 1 年或酌情更換
    定期檢查高壓電源、光源等 5年或視情況而定


    日本Excimer UVO3系統(tǒng)桌面型

    實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)分子 172nm 紫外光源

    型號(hào):E500-172-110

    以簡(jiǎn)單的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)低成本和高性能。可以立即打開(kāi)和關(guān)閉。風(fēng)冷準(zhǔn)分子燈是研究和開(kāi)發(fā)的理想選擇。準(zhǔn)分子紫外燈的光學(xué)表面處理由于準(zhǔn)分子燈的特性,工件的溫度不易升高,因此對(duì)薄膜材料等易受熱影響的物體進(jìn)行精確的低溫表面處理非常出色。

    基本規(guī)格


    產(chǎn)品名稱實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)分子 172nm 光源
    型號(hào)E500-172-110
    波長(zhǎng)172納米
    光源Xe準(zhǔn)分子燈 Φ18 x 120 mm
    初始照度20mW/cm2以上
    連續(xù)照明操作10分鐘內(nèi)(由于輕巧緊湊的風(fēng)冷設(shè)計(jì))
    外形尺寸燈箱 W 200 x H 45 x D 80 mm 電源 W 250 x H 133 x D 200 mm
    效用電源 AC100V 50 / 60Hz 2A,臭氧解毒局部排氣
    定期更換零件廢氣臭氧分解裝置建議使用 1 年或酌情更換
    定期檢查高壓電源、光源等 5年或視情況而定




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